簡要描述:華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布??蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統(tǒng)可靠。華測高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測試儀器廠家
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品牌 | 北京華測 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子,航天,電氣 |
高速加熱冷卻管式爐馬弗爐
高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度高的精度測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布??蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū),高速加熱、高速冷卻,用石英管保護(hù)加熱式樣,無氣氛污染??稍诟哒婵眨叱黾兌葰怏w中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐,溫度斜率爐,階段加熱爐。
它提高了加熱試驗?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比,紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間,再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講,都節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比,不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單,有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗人員的工作效率,實現(xiàn)全溫度控制操作!
目電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設(shè)備,將對電網(wǎng)造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集,華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用新特殊參數(shù)分析技術(shù),實現(xiàn)了高達(dá)120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導(dǎo)體,功能材料和納米器件的測試需求.
高速升溫時,配套的快速反應(yīng)的紅外線反射爐控制裝置,本控制裝 營采用可編程溫度控制器。高緊湊設(shè)計,響應(yīng)速度愉。為了高速加熱設(shè)備采用PID溫度控制, 同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試價溫度。
主要用途:
主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實驗、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實驗、真空退火等。
華測高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測試儀器廠家
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